진공에 대해 알려주마.

MFC (Mass Flow Controller) 반도체/디스플레이 제조 장비에 사용되는 장치 중 중요한 부분을 차지하는 MFC를 소개한다. 많은 장비에서 사용되지만 Etch, CVD 공정에서는 핵심 장치 중 하나이다. 장치의 기본 원리는 바람이 불어 기온이 내려가는 현상을 이용한다. 금속관에 입구와 출구에 온도계를 달고 바람(가스)를 통과시키고 통과할 때 발생한 입구와 출구의 온도차를 이용하여 흘러간 양을 계산해 낸다. 계산된 값으로 밸브를 조절하여 일정한 유량만 흐르게 조정하게 된다. MFC는 입구와 출구의 온도 차이를 계산하기 방식으로 한쪽으로 흘려야 되므로 방향성을 가지게 된다. 또한 가스의 종류에 따라 온도가 내려가는 비율이 다르기 때문에 가스마다 다른 MFC를 사용하거나 MFC의 재설정하여 사용..