진공에 대해 알려주마.

리크디텍터(Leak Detector)는 챔버에 누설(Leak)이 발생하는 경우 해당 리크 포인트(Leak point)를 정확하게 찾기 위한 장치이다.반도체/디스플레이 라인의 진공 설비에서 가장 흔하게 사용되는 장치이며 챔버(Chamber)의 펌핑 라인(Pumping line)에 리크 디텍터(Leak detector)를 설치하고 설비 주위에 헬륨가스(Helium gas)를 뿌리고 헬륨 가스에 챔버에 유입되는지를 확인하고 해당 위치를 찾기 위한 도구이다.아래는 동영상은 Pfeiffer vacuum / 보쉬 사에서 제작한 리크 디텍터 영상이다. 이해하는데 도움이 될듯하다. 파이퍼 베큠에서 만든 Leak Detector 원리를 알려주는 동영상https://youtu.be/PHHnySYpyHI 보쉬에서 만든 L..

내가 아는 진공 펌프는 아래와 같이 초강력 고성능 모델이었다. https://hivac.tistory.com/25반도체에서는 펌프 한대를 사용하였으며 디스플레이 설비에서는 2~3대를 묶어서 강력한 빨힘으로 챔버를 펌핑하였다. 챔버를 순식간에 진공 상태로 만든다. 소리도 강력하다. 펌핑하는 소리만 들어도 무슨 작업을 진행하는지 대략 알 수 있다. 최근 광학 검사기를 개발 하면서 그리 세지 않은 진공을 필요로 하는 경우가 있다. 이러한 경우 굳이 하우스 베큠(유틸리티 진공 라인)을 연결할 필요 없이 설비 내에서 진공을 만들어 사용한다. 이러한 경우 공압을 이용하여 저진공을 만들 수 있는 장치가 있다. 광학 검사기에서는 웨이퍼만 Chucking 하는 용도로 사용한다. Vacuum ejector라 불리며 핸들러..

DRY-ETCHER (드라이 에쳐, 건식 식각 장치)내가 가장 많이 다룬 설비가 드라이에쳐 이다. 반도체와 디스플레이용 제어 프로그램을 개발하였다. 주로 공정 챔버용 제어 프로그램을 개발하였다. 설비의 핵심은 공정 챔버다. 디스플레이 쪽에서는 글라스 반송 업무(물류)도 중요한 업무로 보고 있다. 200mm 반도체 제조 공정용 dry etcher를 시작으로 하여 display의 대면적 dry etcher까지 크기, 공정, TACT 등의 확장을 거듭하여 발전하였지만 제품 생산을 위한 공정의 기본은 거의 유사하다. 양산용 진공 설비는 진공을 사용하는 장비가 가지는 가장 기본적인 클러스터 구조(Cluster system)를 가진다. 공정 챔버가 진공을 유지함으로 진공 반송 장치와 대기와 진공을 손쉽게 하여 공정..

압력을 측정하여 시각화하거나 숫자로 표시해 주는 장치를 압력 게이지라고 한다. 이것이 업계에서는 어떻게 사용되는지 알아본다. 위와 같이 공급되는 압력을 바늘과 눈금으로 보여주는 압력 게이지가 있는가 하면 장치를 이용하여 압력을 측정하고 측정된 값을 통신을 통하여 원하는 곳에 전달해 주는 전자식 게이지가 있다. 위의 사진은 Pfeiffer사의 압력 게이지이다. 위의 적색 게이지는 Pirani gauge이고 아래의 백색은 Ion gauge로 고진공의 압력값을 읽는 장치이다. 그리고 이 페이지 맨 아래 사진에 보면 CDG(Capacitance Diaphragm Gauge)로 불리는 공정 중 챔버의 압력을 정확히 측정하는 정밀 게이지로 구성된다. Pirani gauge는 늘 그렇듯 Pirani 선생이 개발한 게..